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CVD-1200系统由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
主要功能和特点:
1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成,最高真空可达0.0001Pa;
2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;
3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性。
4、采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;管路采用世界顶级Swagelok卡套连接,不漏气;
5、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠。
主要用途:
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验,特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
主要技术参数:
SKGL-1200
控温方式
采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。
加热元件
0Cr27Al7Mo2
工作电源
AC220V 50HZ/60HZ
额定功率
4KW
炉管尺寸
Φ60/Φ80/Φ100*1000mm
工作温度
≤1150℃
最高温度
1200℃
恒温精度
±1℃
加热区长度
440mm或220mm/220mm
升温速度
≤20℃/min
密封方式
不锈钢快速法兰挤压密封
ZK-F
真空范围
0.1-0.001Pa
极限真空
4.0*10^-4Pa
产品配置
双级旋片真空泵+分子泵
测量方式
复合真空计
真空规管
电阻规+电离规
冷却方式
风冷
AC220V 50/60HZ
抽速
110L/S
ZDFC-Ⅲ
测量范围
5~1*10^-5 Pa
稳压(真空)范围
1~5*10^-3Pa
压力(真空)稳定精度)
±3%
控制范围
2.5*10^3~1*10^-4 Pa
控制精度
± 1%
HQZ-Ⅲ
控制方式
D07-7K质量流量计,D08流量显示仪
流量规格
0-500SCCM /0-1SLM,(可根据客户需要配置)
线性
±1%F.S
准确度
重复精度
±0.2%F.S.
响应时间
≤2sec
耐压
3MPa
气路通道
3通道(根据客户需求)
针阀
316不锈钢
管道
Φ6mm不锈钢管
接口
SwagelokΦ6mm
一、产品质量承诺:
1、产品的制造和检测严格按相关标准执行,并有质量记录可查;每台设备都有唯一的制造编号,并建立用户档案。 2、所有产品均可通过权威的第三方检测机构检测;也可委托我方代为办理(检测机构:上海市计量局和华东国家计量测试中心),费用另计。
二、交货期承诺:
按合同约定执行;如客户有特殊原因需提前交货的,我公司可特别组织生产,力争满足用户需求。
三、售后服务承诺:
1、免费送货上门服务;
2、免费安装调试服务:当您收到设备后,请注意检查外包装是否完好并通知我们,我们会安排专业人员上门免费安装、调试及培训,并指导操作人员如何保养和注意事项等,直至满意为止。
3、高效率服务:当设备不能正常使用时,请及时联系我们,我们会在10分钟内响应;2小时内提供应急解决方案;72小时内安排专业人员上门服务;
4、免费更换维修服务:本产品提供一年免费保修服务;
5、定期回访服务:提供定期电话回访或上门回访服务;
6、免费更新服务:我们免费提供软件的升级更新服务,使设备始终处于国内领先;
7、保证配件供应:保证设备配件及配套产品的供应;
8、本服务承诺最终解释权归上海钜晶精密仪器制造有限公司所有。