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CVD-1200系统
关 键 词:高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验、材料制备、纳米线生长、材料烧结
CVD-1200系统由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
机器型号:CVD-1200
产品品牌:钜晶
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接受订制:可按要求定制
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CVD-1200系统由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

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CVD-1200系统由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。

主要功能和特点:

1、高真空系统由双级旋片真空泵和分子泵组成,最高真空可达0.0001Pa

2、可配合压强控制仪控制气体压力实现负压的精准控制;

3、数字质量流量控制系统是由多路质量流量计,流量显示仪等组成,实现气体的流量的精密测量和控制;每条气体管路均配备高压逆止阀,保证系统的安全性和连续均匀性。

4、采用KF快速法兰密封,装卸方便快捷;管路采用世界顶级Swagelok卡套连接,不漏气;

5、超温、过压时,自动切断加热电源及流量计进气,使用安全可靠。

主要用途:

高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验,特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

主要技术参数:

SKGL-1200

控温方式

采用人工智能调节技术,具有PID调节、自整定功能,并可编制30段升降温程序。

加热元件

0Cr27Al7Mo2

工作电源

AC220V      50HZ/60HZ

额定功率

4KW

炉管尺寸

Φ60/Φ80/Φ100*1000mm

工作温度

1150

最高温度

1200

恒温精度

±1

加热区长度

440mm220mm/220mm

升温速度

20/min

密封方式

不锈钢快速法兰挤压密封

ZK-F

真空范围

0.1-0.001Pa

极限真空

4.0*10^-4Pa

产品配置

双级旋片真空泵+分子泵

测量方式

复合真空计

真空规管

电阻规+电离规

冷却方式

风冷

工作电源

AC220V 50/60HZ

抽速

110L/S

ZDFC-

测量范围

51*10^-5 Pa

稳压(真空)范围

15*10^-3Pa

压力(真空)稳定精度)

±3%

控制范围

2.5*10^31*10^-4 Pa

控制精度

± 1%

HQZ-

控制方式

D07-7K质量流量计,D08流量显示仪

流量规格

0500SCCM /01SLM,(可根据客户需要配置)

线性

±1%F.S

准确度

±1%F.S

重复精度

±0.2%F.S.

响应时间

2sec

耐压

3MPa

气路通道

3通道(根据客户需求)

针阀

316不锈钢

管道

Φ6mm不锈钢管

接口

SwagelokΦ6mm


上海钜晶精密仪器制造有限公司生产的实验电炉符合国家标准并通过欧盟CE安全认证,出厂前经过严格检测;秉持“全方位、高品质、快速度”的服务标准,以客户满意为目标,谨此公开承诺。
一、产品质量承诺:
1、产品的制造和检测严格按相关标准执行,并有质量记录可查;每台设备都有唯一的制造编号,并建立用户档案。 2、所有产品均可通过权威的第三方检测机构检测;也可委托我方代为办理(检测机构:上海市计量局和华东国家计量测试中心),费用另计。
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三、售后服务承诺:
1、免费送货上门服务;
2、免费安装调试服务:当您收到设备后,请注意检查外包装是否完好并通知我们,我们会安排专业人员上门免费安装、调试及培训,并指导操作人员如何保养和注意事项等,直至满意为止。
3、高效率服务:当设备不能正常使用时,请及时联系我们,我们会在10分钟内响应;2小时内提供应急解决方案;72小时内安排专业人员上门服务;
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6、免费更新服务:我们免费提供软件的升级更新服务,使设备始终处于国内领先;
7、保证配件供应:保证设备配件及配套产品的供应;
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